知识 使用高纯氧化锆研磨球的主要目的是什么?实现清洁高效的玻璃粉碎
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技术团队 · Kintek Press

更新于 5 天前

使用高纯氧化锆研磨球的主要目的是什么?实现清洁高效的玻璃粉碎


高纯氧化锆研磨球具有两个关键功能:高效的粒径减小和化学纯度的保持。利用其卓越的硬度和密度,这些研磨介质将淬火玻璃碎片转化为微米级粉末,同时其耐磨性可防止外来杂质损害二硅酸锂玻璃的化学成分。

使用氧化锆介质是最大化粉末反应性(通过增加表面积)并同时确保高品质玻璃陶瓷所需化学纯度的战略选择。

高效粉碎的力学原理

利用高硬度和密度

多孔二硅酸锂玻璃陶瓷原材料的制备始于淬火玻璃碎片。为了有效地处理这些碎片,研磨介质必须具备优越的物理性能。

高纯氧化锆球的特点是高硬度和高密度。这些特性使介质在研磨过程中能够产生强大的冲击力。

实现微米级粉末

这种强大的机械冲击对于精炼粗玻璃碎片至关重要。研磨过程成功地将材料分解成微米级粉末

这种粒径的一致性对于最终陶瓷产品的均匀性至关重要。

提高材料反应性

增加比表面积

粉碎玻璃的主要技术目标是增加其比表面积

随着粒径减小,可用于化学和物理相互作用的总表面积显著增加。

促进烧结的反应活性

增加的比表面积直接导致反应活性增强

这种高度的反应性对于后续加工步骤的成功至关重要。特别是,它有助于高效的冷烧结,确保材料正确固结。

避免常见的加工陷阱

介质磨损的风险

在机械研磨中,一个常见的权衡是研磨介质本身的退化。如果球体不够耐用,它们会磨损并将材料脱落到粉末中。

这会引入杂质,从而改变二硅酸锂玻璃的化学成分和性能。

最大限度地减少杂质污染

氧化锆通过其出色的耐磨性解决了这个问题。

通过抵抗磨损和冲击损伤,氧化锆球最大限度地减少了玻璃组件的杂质污染。这确保了精炼的粉末保持了应用所需的精确化学成分。

为您的目标做出正确的选择

选择正确的研磨介质是在机械效率和化学完整性之间取得平衡。

  • 如果您的主要关注点是工艺效率:依靠氧化锆的高密度来产生所需的冲击力,以快速实现微米级粒径。
  • 如果您的主要关注点是材料纯度:利用氧化锆的耐磨性,确保冷烧结的高反应性,而不会引入外来污染物。

高纯氧化锆提供了冲击力和耐用性的最佳平衡,可生产出具有反应性、清洁的玻璃陶瓷粉末。

总结表:

特性 对玻璃陶瓷制备的好处
高硬度与高密度 产生强大的冲击力,实现微米级粉末均匀性。
出色的耐磨性 最大限度地减少介质退化并防止化学污染。
增加的表面积 最大化粉末反应性,以获得卓越的冷烧结性能。
化学惰性 保持二硅酸锂化学成分的精确组成。

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参考文献

  1. Xigeng Lyu, Tohru Sekino. Porous Lithium Disilicate Glass–Ceramics Prepared by Cold Sintering Process Associated with Post-Annealing Technique. DOI: 10.3390/ma17020381

本文还参考了以下技术资料 Kintek Press 知识库 .

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