产品 电极制造设备 Laboratory Coating Machine 底部加热薄膜涂布机
底部加热薄膜涂布机

Laboratory Coating Machine

底部加热薄膜涂布机

货号 : TB08

价格根据 规格和定制情况变动


涂布速度
0至120毫米/秒可调
涂布厚度控制精度
0.01毫米
真空板加热温度范围
室温至150°C
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产品概述

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这款底部加热薄膜涂布机专为陶瓷薄膜、晶体薄膜、电池材料薄膜和特殊纳米薄膜的高温涂布研究而设计。其集成式涂布、真空固定和底部加热功能,可在紧凑的实验室系统中实现受控的成膜与干燥。该设备适用于研究在升温条件下开展未来薄膜成型技术的项目。

系统结合了可编程涂布运动、真空铝板和可调加热功能。研究人员可通过触摸屏界面设置涂布速度、运行距离、加热温度和干燥时间。这使设备适用于电极制备、功能薄膜开发、先进材料研究以及实验室规模的工艺评估。

精密千分尺刮刀、刚性钣金结构、数字温度控制器和无油真空泵,为可重复的实验工作提供了实用基础。该设备适用于重视可控涂层厚度、稳定基材定位、紧凑尺寸和简便操作的实验室环境,有助于提高日常科研效率。

主要特点

  • 底部加热与干燥:集成式真空板加热系统的工作温度范围为室温至150°C。数字温度控制器可提供±1°C的温度控制精度,确保涂布后的干燥条件稳定一致。

  • 千分尺级厚度控制:可调刮刀的厚度设置范围为0至5 mm,涂层厚度控制精度为0.01 mm,支持研究薄膜和电极涂层的精密制备。

  • 可调涂布速度:涂布速度可在0至120 mm/s范围内调节。研究人员可根据浆料特性、目标薄膜厚度和工艺开发要求匹配涂布运动。

  • PLC与触摸屏控制:基于PLC的运行方式和触摸屏界面使参数设置与观察更加便捷。0至300 mm的涂布行程也可通过触摸屏进行设置。

  • 真空基材固定:真空铝平板可在涂布过程中牢固固定基材。快速放置和取出有助于简化样品制备流程并减少不必要的操作。

  • 100 mm标准涂布宽度:标准涂布装置宽度为100 mm,为实验室薄膜和电极研究提供了实用的工作规格,同时保持设备占地紧凑。

  • 紧凑型结构设计:设备外形尺寸为长550 mm × 宽350 mm × 高320 mm,有助于节省宝贵的实验室空间。三维几何钣金设计外观整洁,设备结构布局合理。

  • 集成真空供应:设备配备一台无油真空泵,为基材固定提供专用真空源,标准运行时无需另外选择真空泵。

应用

应用 描述 主要优势
陶瓷薄膜研究 将陶瓷浆料或功能陶瓷材料涂覆到支撑基材上,用于高温成膜研究。 可控涂布速度和0.01 mm厚度控制精度有助于实现可重复的材料对比。
晶体薄膜开发 制备晶体相关薄膜,满足均匀浆料铺展和受控干燥条件的要求。 从室温至150°C的底部加热有助于建立明确的涂布后干燥条件。
电池电极制备 将电池材料浆料涂覆到铝箔或铜箔上,用于实验室电极和电芯制造研究。 真空固定可减少基材移动,可编程涂布行程有助于实现一致的电极制备。
特殊纳米薄膜研究 采用需要精确刮刀调节和受控运动的实验室涂布工艺开发特殊纳米薄膜。 精细涂布控制和可调速度使研究人员能够系统评估工艺变量。
先进材料研究 研究新兴材料在升温研究条件下的成膜行为和涂布条件。 涂布与加热功能的结合简化了小规模工艺开发。
学术与实验室工艺研究 为材料科学实验、配方筛选和对比测试制备可重复的涂布样品。 触摸屏参数设置、紧凑尺寸和自动涂布运动可提高工作流程效率。

技术规格

设备配置

参数 规格
型号 TB08
标准涂布装置宽度 100 mm
真空板 配备真空铝平板
配套真空泵 1台无油真空泵
控制系统 PLC与触摸屏控制
涂布行程设置 0至300 mm,通过触摸屏设置
电源 220 V / 50 Hz
重量 50 kg
外形尺寸 长550 mm × 宽350 mm × 高320 mm

涂布与加热性能

参数 规格
涂布速度 0至120 mm/s,可调
刮刀厚度调节范围 0至5 mm
涂层厚度控制精度 0.01 mm
真空板加热与干燥系统 室温至150°C
温度控制器 数字显示温度控制器
温度控制精度 ±1°C
真空板尺寸 长415 mm × 宽200 mm × 高32 mm

兼容基材数据

基材 宽度 厚度 面密度
铝箔 50至200 mm 10至50 μm 27至135 g/m²
铜箔 50至200 mm 6至20 μm 53至178 g/m²

操作流程

步骤 操作
1 将电极片放置在真空板上,启动电源并开启真空,使电极片固定在真空板上。
2 将涂布装置放置在电极片上,并加入涂布浆料。
3 启动涂布循环。涂布装置会自动向前运行,完成涂布操作。
4 取下涂布装置和推杆,设置加热温度与时间,并进行加热干燥。
5 干燥完成后,取下涂布后的电极片,并将涂布装置复位。

该操作流程将基材固定、浆料涂布和加热干燥分为清晰的阶段。这样的安排使研究人员能够完成样品放置和程序化涂布运动,然后施加选定的干燥条件,而无需将涂布后的基材转移到独立的加热平台。整个过程中,真空板始终作为核心工作台面,支持在规定尺寸范围内稳定处理铝箔、铜箔和其他研究基材。

可调涂布速度范围支持针对不同浆料配方和薄膜目标开展工艺开发。在需要受控材料沉积的工艺评估中,可以选择较低速度;当配方和目标涂布条件允许时,则可采用较高速度以加快样品制备。刮刀调节和涂布行程设置均可通过触摸屏完成,使操作人员能够为对比实验建立可重复的起始条件。

底部加热功能尤其适用于研究升温条件下干燥和成膜过程的项目。数字控制器可显示所选温度,±1°C的温度控制精度有助于确保不同实验之间的热条件一致。由于加热系统集成在真空板下方,涂布后的基材可以在干燥阶段保持固定,减少样品制备过程中的额外移动。

其物理设计也适合工作台空间有限的实验室。长550 mm × 宽350 mm × 高320 mm的占地尺寸,将涂布机构、真空板、加热系统、控制装置和配套真空泵集成于紧凑的设备中。刚性钣金外壳采用三维几何设计,外观整洁、结构布局有序,同时可在日常实验室使用过程中保护内部设备结构。

选择本产品的理由

  • 集成式研究工作流程:将真空固定、可编程涂布、可调刮刀控制和底部加热集成于一台设备中,减少不同制备阶段之间的转移。

  • 可重复的工艺控制:可调涂布速度、0.01 mm涂层厚度控制精度、可编程0至300 mm行程以及±1°C温度控制精度,为对比研究提供可量化的工艺参数。

  • 基材稳定性:真空铝平板有助于在涂布和干燥过程中牢固固定电极片,支持铝箔和铜箔研究中的一致性样品处理。

  • 高效利用实验室空间:紧凑的外形尺寸和配套无油真空泵,可简化设备安装,适合重视工作台空间和设备集成的实验室。

如需获取报价或根据您的薄膜研究要求配置涂布方案,请联系我们的技术团队,讨论合适的解决方案。

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