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小型实验室自动涂膜干燥机

实验室涂布机

小型实验室自动涂膜干燥机

货号 : TB07

价格根据 规格和定制情况变动


最大涂布面积
长200 × 宽100 mm
涂布速度
0–120 mm/s
加热干燥温度
室温–130°C;控制精度 ±1°C
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产品概述

小型实验室自动涂膜干燥机 1

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这款小型实验室自动涂膜干燥机将精密平板涂布与受控加热干燥功能集成在一个紧凑的实验室平台上。电机驱动涂布提供稳定且可调的运行,随附的涂膜器支持受控的涂层厚度。真空铝板可在加工过程中牢固固定铜箔、铝箔及其他基材,防止变形。

该设备专为涉及陶瓷薄膜、晶体薄膜、电池材料薄膜及特殊纳米薄膜的高温薄膜研究而设计。其紧凑的尺寸允许通过手套箱过渡舱,非常适合受控气氛下的工作流程。当连接外部真空泵时,该装置也可在手套箱内操作。

大面积均匀加热支持腔体内精确的温度均匀性,数字温度控制器提供从室温到130°C的受控干燥。PLC和触摸屏操作简化了参数设置,帮助实验室在严苛的材料研究中保持可重复的涂布和干燥条件。

主要特点

  • 紧凑的手套箱兼容设计:小巧的占地面积使设备能够通过手套箱过渡舱。其紧凑的外部尺寸也有助于节省宝贵的实验室和受控环境工作空间。

  • 电机驱动平板涂布:涂布刮刀由电机驱动,以保持在基材上移动的稳定性。涂布速度可通过触摸屏连续调节,以进行受控的工艺开发。

  • 涂布速度可调:在处理磷酸铁锂浆料等材料时,涂布速度范围为0至120 mm/s。这一可调范围支持针对不同浆料和薄膜研究条件的工艺优化。

  • 精密薄膜厚度控制:随附的涂膜器可实现可调的涂层厚度,刮刀厚度调节范围为0至5 mm。涂布精度可达±3 μm,可选配1 μm刻度表以增强测量可见性。

  • 真空铝制基材板:真空板可快速吸附或释放铜箔、铝箔及类似基材。真空固定有助于防止涂布过程中基材变形,并支持在工作区域内实现稳定的定位。

  • 灵活的真空供应:设备内置一台无油真空泵。当装置安装在手套箱内时,需要连接外部真空泵来支持真空板工作。

  • 均匀加热干燥:采用大面积加热,以促进腔体内精确的温度均匀性。干燥系统可在室温至130°C范围内运行,温度控制精度为±1°C。

  • 触摸屏PLC控制:基于PLC的触摸屏控制提供了一个便捷的界面,用于设置涂布速度、涂布行程和与温度相关的操作参数。涂布行程可通过控制屏幕连续调节。

  • 节省空间的实验室结构:紧凑的外壳将涂布、真空固定和加热干燥功能集成在一个0.4 kW的系统中。这种配置支持高效利用台面空间进行实验室规模的薄膜制备。

应用领域

应用 描述 主要优势
电池材料薄膜研究 将磷酸铁锂等电池材料浆料涂覆在箔基材上,随后进行受控加热干燥。 可调涂布速度、真空固定和温度控制支持可重复的电极薄膜制备。
陶瓷薄膜开发 使用平板涂布和最高130°C的干燥条件制备陶瓷薄膜样品。 受控的涂层厚度和均匀加热提高了配方和薄膜评估过程中的工艺一致性。
晶体薄膜研究 将晶体材料涂层应用于合适的实验室基材,进行高温薄膜研究。 电机驱动运动和可调涂布行程提供受控的样品制备。
特殊纳米薄膜开发 处理需要稳定涂布运动和精确厚度调节的特殊纳米薄膜配方。 精细的涂布控制和真空基材固定有助于减少小面积实验中的偏差。
手套箱处理 将紧凑型设备通过过渡舱移入手套箱后进行涂布操作。 紧凑的结构支持受控气氛研究,同时节省手套箱工作空间。
涂层箔制备 将铜箔、铝箔及其他基材固定在真空铝板上进行平板涂布。 快速的基材放置和移除提高了操作效率,并有助于避免基材变形。

技术规格

参数 规格
产品编号 TB07
涂布方式 平板涂布;随附100型涂膜器;其他计量装置(如涂布棒)可选,用于手动刮刀涂布
最大涂布面积 长200 × 宽100 mm
涂布行程调节 通过触摸屏连续可调
涂布驱动 电机驱动
涂布速度调节 通过触摸屏连续可调
涂布速度 0–120 mm/s(例如用于磷酸铁锂浆料)
真空板 真空铝制平板
真空板尺寸 长230 mm × 宽130 mm × 高30 mm
刮刀厚度调节范围 0–5 mm,可调
涂布精度 ±3 μm
可选厚度显示 1 μm刻度表
加热干燥系统 室温–130°C
温度控制器 数字温度控制器
温度控制精度 ±1°C
电源 220 V/50 Hz
功率 0.4 kW
重量 15 kg
外部尺寸 长375 mm × 宽225 mm × 高190 mm
真空泵 内置一台无油真空泵
手套箱真空要求 当设备在手套箱内使用时,需要外部真空泵

最大涂布面积为长200 mm、宽100 mm,为实验室规模的薄膜制备提供了明确的工作区。涂布行程通过触摸屏设置并可连续调节,允许用户根据基材尺寸和配方要求匹配有效行程。当同一研究工作流程涉及多种样品尺寸或涂布长度时,这一点非常有用。

电机驱动的涂布机构旨在提供跨越平板的稳定行程。可调涂布速度范围为0至120 mm/s,参考规格中以磷酸铁锂浆料作为代表性应用材料。由于速度通过触摸屏调节,操作员可以建立可重复的工艺设置,而无需依赖手动操作。

标准涂膜器在随附规格中标识为100型涂膜器。其他计量工具(包括涂布棒)可用于手动刮刀涂布。这为实验室在比较涂布方法、测试不同浆料行为或使设备适应特殊薄膜配方时提供了灵活性。刮刀厚度调节范围为0至5 mm,涂布精度指定为±3 μm。

对于需要额外可见厚度测量的应用,可选配1 μm刻度表。这为需要在设置或监控涂布间隙时需要更精细控制的用户提供了更详细的显示测量参考。可调刮刀厚度、可选计量工具和电机驱动行程的组合,支持结构化的工艺开发,而非单一固定的涂布条件。

真空铝制平板长230 mm、宽130 mm、高30 mm。它旨在实现铜箔、铝箔及其他基材的快速放置和移除。真空固定有助于在涂布过程中将基材保持在原位,并旨在避免基材变形。设备包含一台内置无油真空泵。如需在手套箱内操作,参考规格要求连接外部真空泵。

集成加热干燥系统可在室温至130°C之间运行,并使用数字温度控制器。温度控制精度指定为±1°C。大面积均匀加热用于促进腔体内精确的温度均匀性,支持在整个工作区域内实现一致的干燥条件。此功能适用于涉及陶瓷、晶体、电池材料和特殊纳米薄膜样品的高温涂布研究。

电源要求为220 V/50 Hz,额定功率为0.4 kW。该装置重15 kg,外部尺寸为长375 mm、宽225 mm、高190 mm。这些尺寸支持台面部署以及通过手套箱过渡舱进行传输。PLC和触摸屏控制提供了便捷的参数设置操作界面,包括涂布行程和涂布速度调节。

为什么选择本产品

  • 集成化工艺控制:涂布、真空基材固定和加热干燥集成在一个紧凑的实验室系统中,减少了协调多种独立加工设备的需要。

  • 一致的实验条件:电机驱动涂布、连续可调的行程和速度、±3 μm的涂布精度以及±1°C的温度控制,支持可重复的研究结果。

  • 受控气氛兼容性:紧凑的结构专为通过手套箱过渡舱而设计,真空板支持在保护气氛工作期间进行箔材处理。

  • 灵活的材料研究平台:该系统支持陶瓷、晶体、电池材料和特殊纳米薄膜研究,并可根据不同的工艺要求提供可选的涂布棒和1 μm刻度表。

  • 高效的实验室操作:紧凑的0.4 kW设计、触摸屏PLC控制、内置无油真空泵以及可调的涂布参数,为持续的实验室开发工作提供了一个实用的平台。

请联系我们获取报价、应用评估或针对您的涂布材料、基材、受控气氛工作流程及干燥要求定制的解决方案。

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