产品 电极制造设备 Laboratory Coating Machine 小型实验室自动涂膜干燥机
小型实验室自动涂膜干燥机

Laboratory Coating Machine

小型实验室自动涂膜干燥机

货号 : TB07

价格根据 规格和定制情况变动


最大涂布面积
L200 × W100 mm
涂布速度
0–120 mm/s
加热干燥温度
室温–130°C;控制精度 ±1°C
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产品概述

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这款小型实验室自动涂膜干燥机将精密平板涂布与受控加热干燥功能集成于紧凑型实验室平台中。电机驱动涂布可实现稳定且可调的移动,配备的涂膜器支持受控涂层厚度。真空铝板可在加工过程中牢固固定铜箔、铝箔及其他基材,避免基材变形。

该设备专为陶瓷薄膜、晶体薄膜、电池材料薄膜及特殊纳米薄膜等高温薄膜研究而设计。其紧凑尺寸可通过手套箱过渡舱,适用于受控气氛工作流程。连接外部真空泵后,本设备也可在手套箱内部运行。

大面积均匀加热有助于实现整个腔室内准确的温度均匀性,数字温度控制器可提供从室温至130°C的受控干燥。PLC和触摸屏操作简化了参数设置,帮助实验室在要求严苛的材料研究中保持可重复的涂布和干燥条件。

主要特点

  • 兼容手套箱的紧凑型设计:小巧的占地面积使设备能够通过手套箱过渡舱。紧凑的外部尺寸还有助于节省宝贵的实验室及受控环境工作空间。

  • 电机驱动平板涂布:涂布刮刀由电机驱动,以保持其在基材上的稳定移动。涂布速度可通过触摸屏连续调节,满足受控工艺开发需求。

  • 可调涂布速度:在处理磷酸铁锂浆料等材料时,涂布速度范围为0至120 mm/s。该可调范围支持针对不同浆料和薄膜研究条件进行工艺优化。

  • 精准薄膜厚度控制:配备的涂膜器支持可调涂层厚度,刮刀厚度调节范围为0至5 mm。涂布精度可达±3 μm,并可选配显示分辨率为1 μm的千分表,以增强测量可视性。

  • 真空铝基材板:真空板可快速吸附或释放铜箔、铝箔及类似基材。真空固定有助于防止涂布过程中的基材变形,并支持基材在整个工作区域内稳定定位。

  • 灵活的真空供应:设备包含并内置一台无油真空泵。当设备安装在手套箱内部时,需要使用外部真空泵为真空板提供支持。

  • 均匀加热干燥:采用大面积加热,以促进腔室内准确的温度均匀性。干燥系统工作温度范围为室温至130°C,温度控制精度为±1°C。

  • 触摸屏PLC控制:基于PLC的触摸屏控制系统提供便捷的操作界面,可设置涂布速度、涂布行程及温度相关运行参数。涂布行程可通过控制屏连续调节。

  • 节省空间的实验室结构:紧凑型机箱将涂布、真空固定和加热干燥功能集成于0.4 kW系统中。该配置可高效利用工作台空间,满足实验室规模的薄膜制备需求。

应用

应用 描述 主要优势
电池材料薄膜研究 将磷酸铁锂等电池材料浆料涂布到箔材基底上,然后进行受控加热干燥。 可调涂布速度、真空固定和温度控制有助于实现可重复的电极薄膜制备。
陶瓷薄膜开发 采用平板涂布工艺,在最高130°C的干燥条件下制备陶瓷薄膜样品。 受控的涂层厚度和均匀加热可提高配方及薄膜评估过程中的工艺一致性。
晶体薄膜研究 将晶体材料涂层涂覆到适用的实验室基材上,用于高温薄膜研究。 电机驱动的移动和可调涂布行程可实现受控的样品制备。
特殊纳米薄膜开发 处理需要稳定涂布移动和精准厚度调节的特殊纳米薄膜配方。 精细的涂布控制和真空基材固定有助于减少小面积实验中的偏差。
手套箱内加工 将紧凑型设备通过过渡舱转移后,在手套箱内进行涂布操作。 紧凑结构支持受控气氛研究,同时节省手套箱工作空间。
涂层箔材制备 将铜箔、铝箔及其他基材固定在真空铝板上,进行平板涂布。 快速放置和取出基材可提高操作效率,并有助于避免基材变形。

技术规格

参数 规格
产品型号 TB07
涂布方式 平板涂布;配备100涂膜器;其他计量装置,如涂布棒,可选配用于手动刮刀涂布
最大涂布面积 长200 × 宽100 mm
涂布行程调节 通过触摸屏连续调节
涂布驱动 电机驱动
涂布速度调节 通过触摸屏连续调节
涂布速度 0–120 mm/s,例如适用于磷酸铁锂浆料
真空板 真空铝制平板
真空板尺寸 长230 mm × 宽130 mm × 高30 mm
刮刀厚度调节范围 0–5 mm,可调
涂布精度 ±3 μm
可选厚度显示 1 μm千分表
加热干燥系统 室温–130°C
温度控制器 数字温度控制器
温度控制精度 ±1°C
电源 220 V/50 Hz
功率 0.4 kW
重量 15 kg
外部尺寸 长375 mm × 宽225 mm × 高190 mm
真空泵 包含一台内置无油真空泵
手套箱真空要求 设备在手套箱内使用时,需要外接真空泵

最大涂布面积为长200 mm、宽100 mm,为实验室规模的薄膜制备提供明确的工作区域。涂布行程通过触摸屏设置,并可连续调节,使用户能够根据基材尺寸和配方要求匹配有效行程。当同一研究流程涉及多种样品尺寸或涂布长度时,该功能尤为实用。

电机驱动涂布机构旨在实现平板上的稳定移动。可调涂布速度范围为0至120 mm/s,参考规格中将磷酸铁锂浆料列为代表性应用材料。由于速度通过触摸屏调节,操作人员无需依靠手动移动即可建立可重复的工艺设置。

随设备提供的标准涂膜器在规格中标注为100涂膜器。还可选择包括涂布棒在内的其他计量工具,用于手动刮刀涂布。这为实验室比较不同涂布方法、测试不同浆料性能或使设备适应特殊薄膜配方提供了灵活性。刮刀厚度调节范围为0至5 mm,涂布精度规定为±3 μm。

对于需要额外可视化厚度测量的应用,可选配1 μm千分表。对于需要在设定或监测涂布间隙时进行更精细控制的用户,该装置可提供更详细的显示测量参考。可调刮刀厚度、可选计量工具与电动行程相结合,支持系统化工艺开发,而不是局限于单一固定涂布条件。

真空铝制平板长230 mm、宽130 mm、高30 mm,适用于快速放置和取出铜箔、铝箔及其他基材。真空固定有助于在涂布过程中保持基材位置,并旨在避免基材变形。设备包含一台内置无油真空泵。在手套箱内运行时,参考规格要求连接外部真空泵。

集成式加热干燥系统的工作温度范围为室温至130°C,并采用数字温度控制器。温度控制精度规定为±1°C。系统采用大面积均匀加热,以促进腔室内准确的温度均匀性,确保工作区域内干燥条件的一致性。该功能适用于陶瓷、晶体、电池材料及特殊纳米薄膜样品的高温涂布研究。

电源要求为220 V、50 Hz,额定功率为0.4 kW。设备重量为15 kg,外部尺寸为长375 mm、宽225 mm、高190 mm。这些尺寸支持台式部署及通过手套箱过渡舱转移。PLC和触摸屏控制提供便捷的参数设置操作界面,包括涂布行程和涂布速度调节。

为什么选择本产品

  • 集成式工艺控制:涂布、真空基材固定和加热干燥功能集成于一套紧凑型实验室系统中,减少了协调多台独立加工设备的需求。

  • 一致的实验条件:电机驱动涂布、连续可调的行程和速度、±3 μm涂布精度以及±1°C温度控制,有助于获得可重复的研究结果。

  • 兼容受控气氛环境:紧凑结构设计便于设备通过手套箱过渡舱,真空板则支持保护气氛工作中的箔材处理。

  • 灵活的材料研究平台:系统支持陶瓷、晶体、电池材料和特殊纳米薄膜研究,并可选配涂布棒及显示分辨率为1 μm的千分表,以满足不同工艺需求。

  • 高效的实验室操作:紧凑型0.4 kW设计、触摸屏PLC控制、内置无油真空泵和可调涂布参数,为持续开展实验室开发工作提供实用平台。

联系我们获取报价、应用评估或定制解决方案,我们将根据您的涂布材料、基材、受控气氛工作流程及干燥要求提供匹配方案。

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